- 採択テーマ
- 光渦の同軸干渉による高解像度フォトリソグラフィの開発
- キーワード
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- 研究概要
- フォトリソグラフィーは金属構造の微細加工を要する電子・光デバイス開発において必要不可欠な技術です。フォトリソグラフィーにおける「感光」の工程においては、マスク露光法かレーザー描画露光法のいずれかが用いられます。この内、前者は高解像度の長所がある一方で加工パターンの柔軟性に短所が、後者は加工パターンの柔軟性に長所を持つ一方で解像度に短所があります。これら２法の特徴を両立できれば、とても有用なフォトリソグラフィーが実現できることになります。
後者のレーザー描画露光法で加工パターンの解像度に難があるのは、ガウシアン光の集光スポットが光の回折限界に制約されてしまう為です。もしレーザー描画露光法でこの回折限界の問題を克服できれば、先述したように高解像度と柔軟性の２両面で優れたフォトリソグラフィーが実現できます。本研究テーマでは、光渦が持つ位相特異点を利用して、回折限界を超えた微細加工を可能とするレーザー描画式のフォトリソグラフィを新たに確立する事に挑戦しました。
助成を受けて
栄誉ある稲盛財団の研究助成を受けることができ、大変嬉しく思っております。今後研究をより一層発展させて、実用化されるような成果を出して行きたいと思っています。
